9月9日，工信微报微信公众号发文披露《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》。其中，在电子专用设备一栏，氟化氪光刻机、氟化氩光刻机位列其中。该资料显示，氟化氩光刻机具有65纳米以下的分辨率和8纳米以下的套刻精度。

据东兴证券研报，光刻机可分为直写光刻机与掩膜光刻机，市场主流有i-Iine（汞线）、KrF（氟化氪）、ArF（氟化氩）、ArFi（浸润式氟化氩）、EUV（极紫外）五大类。

此次入选推广目录的氟化氩光刻机，应属于干式ArF光刻机。在具体指标上，与ASML旗下TWINSCAN NXT：1470以及TWINSCAN XT：1460K类似。

按照市场监管总局等5部门于今年4月联合印发的《中国首台(套)重大技术装备检测评定管理办法(试行)》，重大技术装备是国之重器，事关综合国力和国家安全。中国首台(套)重大技术装备，是指国内实现重大技术突破、拥有知识产权、尚未取得明显市场业绩的装备产品，包括整机设备、核心系统和关键零部件等。

国产光刻机实力几何？

据工信微报发文，此次指导目录是为促进首台（套）重大技术装备创新发展和推广应用，加强产业、财政、金融、科技等国家支持政策的协同。

具体来看，氟化氪光刻机晶圆直径为300mm（12英寸）；照明波长为248mm；分辨率≤110nm；套刻≤25nm。

相比之下，阿斯麦（ASML）的氟化氪光刻机型号有TWINSCAN NXT：870、TWINSCAN XT：860N和TWINSCAN XT：860M。这三个型号，波长均为248mm；分辨率≤110nm。

而指导目录中更为先进的氟化氩光刻机，其照明波长为193mm，分辨率≤65nm；套刻≤8nm。

这一数据与ASML旗下TWINSCAN XT：1460K最为接近。该型号照明波长为193mm，分辨率≤65nm。此外，该系统可以在偏振照明下实现低至57nm的生产分辨率。

相比之下，ASML浸润式光刻机TWINSCAN NXT 1980Fi分辨率≤38nm。据民生证券研报，该型号可实现2.5nm的套刻精度（MMO）。

据东海证券援引ASML官网数据，2023年各类光刻机均价为EUV（17386万欧元）、ArFi（7196万欧元）、ArFdry（2742万欧元）、KrF（1192万欧元）、i-Iine（399万欧元）。

东海证券认为，目前光刻机国产化率仅为2.5%，整机技术与海外差距较大，短期5~10年内一方面重点发展90nm、28nm光刻机的研发量产较为关键，一方面重点布局国内半导体零组件发展。

光刻机产业链亟须发展

东海证券称，根据中国国际招标网信息，半导体设备招标中，刻蚀、沉积等核心设备的国产化率获得了较大的提升，核心在于技术上我国相关企业已经逐步追赶上海外企业；但光刻机作为核心设备，国产化率不足3%，核心原因在于零组件供应与整机技术与海外差距较大。

9月18日，东方财富概念板块中，光刻机（胶）板块排名靠前，板块整体涨幅达2.47%。其中，同飞股份、波长光电均收获“20厘米”涨停；新莱应材上涨12.40%。此外，张江高科、海立股份、凯美特气等也涨停。

9月19日，光刻机概念持续活跃，凯美特气、海立股份双双涨停，张江高科涨超6%，波长光电、京华激光、苏大维格等跟涨。

张江高科受关注，主要因为其曾投资上海微电子公司。张江高科于9月10日在投资者交流平台表示，公司通过子公司上海张江浩成创业投资有限公司投资了上海微电子公司2.23亿元，持有上海微电子10.779%的股权，后续未增持或减持。

东兴证券称，国内企业中，上海微电子是目前中国第一家也是唯一家光刻机巨头，出货量已占国内市场份额超过80%，产品主要涉及ArF、KrF和i-line领域，其已具备90nm及以下的芯片制造能力。

光刻机零部件方面，同飞股份曾在2023年中报表示，其液体恒温设备在半导体制造设备领域，主要应用于光刻机、刻蚀机、研磨抛光机等关键设备的温度控制。

不过，根据东兴证券研报，光刻机核心组件包括光源系统、双工作台、物镜系统、对准系统、曝光系统、浸没系统、光栅系统等。配套设施包括光刻胶、掩膜版、涂胶显影等。

光源系统方面，据华金证券，针对准激光光源，科益虹源主要研发248nm准分子激光器、干式193nm准分子激光器等；福晶科技研发KBBF晶体。

另据东兴证券，波长光电为国内激光光学元件的主要供应商，目前，公司已具备提供光刻机配套的大孔径光学镜头的能力，公司成功开发的光刻机平行光源系统可用于国产光刻机领域配套。

波长光电也曾于2023年9月15日披露投资者活动记录表称，公司在半导体领域主要涉及两个领域：一个是生产领域，即曝光机、光刻，公司可提供大口径光学镜头用于检测，做折反、投射，还可以提供平行光源系统；另一个是检测领域，公司可提供检测设备上的光学元件、组件，也可为客户定制开发、装调子系统。

物镜系统方面，东兴证券称，茂莱光学光刻机曝光物镜超精密光学元件加工技术已实现产业化。

东海证券研报显示，中国2023年进口光刻机数量高达225台，进口金额高达87.54亿美元，进口金额创下历史新高，预计3年至5年内我国光刻机主要依赖进口。一台先进的光刻机有多达10万个零部件，整体来看我国半导体零组件的国产化率非常低，尽管在各个赛道均有相关的国有企业在不断发展，距离海外企业依然有较大的差距，同时也预示着国内零组件企业公司有较大的发展机遇。

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记者|朱成祥

编辑|||孙志成 梁枭 杜波

校对|何小桃

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